論文掲載
柱状Cu2O膜の電気化学的微細構造形成に関する論文を発表
Khoo Pei Loon助教、小林正和教授らの共著論文がMicromachines誌に掲載されました。柱間領域の優先溶解を利用し、成膜後のCu2O膜に微細構造を形成する手法を報告しています。
要旨の要約 / Abstract summary
日本語
電析した柱状Cu2O膜を陽極酸化し、柱間領域の優先溶解によって微細構造を形成しました。処理時間の増加に伴って柱間の間隔が拡大し、残存する柱状構造の幅が減少しました。Cu2O(111)回折ピークは処理後も観測され、可視光の平均反射率が低下しました。
English
Anodization restructures an electrodeposited columnar Cu2O coating into substrate-supported vertical features by preferentially opening the intercolumnar network. Longer treatment narrows the retained features while preserving the dominant (111) diffraction signature and reducing visible reflectance, demonstrating a template-free route to oxide microstructures.
書誌情報 / Full citation
Pei Loon Khoo; Mizuki Kono; Katsutoshi Sakai; Masakazu Kobayashi; Masanobu Izaki (2026). Electrochemical Microstructuring of Columnar Cu2O Layers Through Preferential Grain Boundary Dissolution. Micromachines, 17(8), 979.
DOI: 10.3390/mi17080979
https://doi.org/10.3390/mi17080979 ↗